天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日申请了一项名为“一种清洗液的应用”的发明专利，并于2024年12月31日正式公布。该清洗液主要用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片，其原料包括氧化剂、胺类有机物、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂及水，各组分质量分数之和为100%。

该清洗液的独特之处在于其不含金属离子，能够有效选择性移除TiN硬掩模，同时抑制铜或铜合金及钴或钴合金的损伤。这一创新技术有望在半导体制造领域带来显著的工艺改进，提高芯片生产的良率和效率。

上海新阳半导体材料股份有限公司位于上海市松江区，专注于半导体材料的研发与生产。此次发明的清洗液不仅展示了公司在技术创新方面的实力，也为半导体行业提供了新的解决方案。

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