天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日申请了一项名为“一种清洗液的制备方法”的发明专利，并于2024年12月31日正式公开。该专利涉及一种新型清洗液的制备方法，旨在提高清洗效果并避免金属离子的引入。

根据专利摘要，该清洗液的制备方法包括将氧化剂、胺类有机物、氟化物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水按特定比例混合。其中，胺类有机物为氮烷基氢氧化铵和/或醇胺，螯合剂为未取代或被一个或多个C1-C4烷基取代的n乙烯m胺、多乙烯多胺和含氮有机酸中的一种或多种，表面活性剂为EO-PO聚合物L43。

该清洗液不含金属离子，适用于多种清洗场景，尤其在半导体材料清洗领域具有广泛的应用前景。专利发明人包括王溯、蒋闯、冯强强、成益敏、马伟和张雪东，专利代理机构为上海弼兴律师事务所。

上海新阳半导体材料股份有限公司位于上海市松江区思贤路3600号，此次公开的专利进一步展示了公司在材料科学领域的创新能力。

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