天眼查App显示，上海新阳半导体材料股份有限公司于2023年6月30日申请了一项名为“一种清洗液的应用”的发明专利，并于2024年12月31日正式公开。该清洗液专用于清洗刻蚀灰化后的半导体芯片，其原料包括氧化剂、胺类有机物、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水。

据专利摘要显示，该清洗液不含氟化铵和金属离子，具有较佳的清洗效果和腐蚀效果。胺类有机物为氮烷基氢氧化铵和/或醇胺，螯合剂为未取代或被一个或多个C1-C4烷基取代的n乙烯m胺、多乙烯多胺和含氮有机酸中的一种或多种。表面活性剂为聚醚酰亚胺和/或聚乙酸乙烯酯。

该清洗液的发明团队包括王溯、蒋闯、冯强强、翟俊杰、邢乃观和刘文奇。上海新阳半导体材料股份有限公司位于上海市松江区思贤路3600号，专利代理机构为上海弼兴律师事务所。

此项专利的公开标志着上海新阳半导体材料股份有限公司在半导体材料领域的技术创新迈出了重要一步，有望为半导体芯片制造行业带来更高效的清洗解决方案。

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