天眼查App显示，金发科技股份有限公司近期公布了一种新型高透超耐候保护膜的发明专利（专利号：CN202411540835.6）。该发明属于高分子材料技术领域，旨在通过优化自粘层组合物中的组分及其配方，使保护膜在具备适宜剥离力的同时，拥有优异的透光率和耐候性。具体而言，这种保护膜表现出卓越的耐紫外线能力和耐高温高湿性能，适用于多种苛刻环境下的防护需求。该专利申请于2024年10月31日提交，并于2025年1月10日公开。发明人包括轩朝阳、陈平绪、叶南飚、付晓和陈延安。这项技术有望在多个行业中得到广泛应用，特别是在对光学透明度和环境稳定性要求较高的应用场景中。

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