天眼查App显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司发明了一种涂胶显影系统，旨在提高晶圆加工的效率和质量。该系统包括清洗设备和涂胶显影设备。清洗设备用于去除晶圆背面的污染物颗粒，确保后续工艺的顺利进行。涂胶显影设备则包含涂胶单元、覆膜单元、显影单元和去膜单元。涂胶单元负责对清洗后的晶圆进行光刻胶涂布处理；覆膜单元在晶圆背面涂覆光滑膜层，以增加光滑度并降低光刻机承载台吸附晶圆时的摩擦力；显影单元对曝光后的晶圆进行显影处理；去膜单元用于去除晶圆背面的光滑膜层。通过这些改进，不仅提高了光刻机的整体寿命，还有效提升了晶圆加工的质量和效率。该发明已于2025年1月10日公布。

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