提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机

天眼查App显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司近日公开了一项发明专利,旨在提高无掩膜光刻机的曝光功率密度。该发明涉及一种新型装置和方法,包括光源、照明光路、调制单元和控制器。控制器连接光源和调制单元,用于控制光源发射照射光线,并对原始图像进行拉伸或压缩处理,以确保输出的曝光图像不变形且与原始图像尺寸一致。通过这种方式,不仅提高了曝光面的功率密度,还保持了扫描宽度,降低了成本。此技术有望在半导体制造领域带来显著提升,特别是在提高光刻效率和精度方面。

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