天眼查App显示，近日，华海清科股份有限公司获得了一项重要的发明专利授权，该专利名为“化学机械抛光方法、装置、设备和存储介质”，专利号为CN202411612205.5。这项发明由路新春、陆定群和张俊杰共同研发，旨在提高晶圆抛光的精度和效率。

该技术通过获取晶圆抛光系统的当前参数，并利用抛光时间确定模型来精确计算待抛光晶圆的最佳抛光时间。系统会根据抛光后的厚度差值进行实时调整，确保每个晶圆都能达到理想的抛光效果。若抛光后厚度差值超过预设阈值，系统将自动更新抛光时间模型，以优化后续晶圆的抛光过程。

此发明不仅提高了抛光时间的准确性，还显著提升了生产效率和产品质量，对于半导体制造等高精度行业具有重要意义。华海清科位于天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号，致力于推动中国高端制造业的技术进步。

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