天眼查App显示，2024年11月22日，北京北方华创微电子装备有限公司申请的发明专利“工艺腔室及半导体工艺设备”正式公开。该专利（CN202411688828.0）涉及对金属材料的镀覆、化学气相沉积法等表面处理技术，旨在提升半导体制造工艺的效率与精度。

该发明由刘龙和李补忠共同完成，重点改进了工艺腔室的设计，使其在真空蒸发法、溅射法及离子注入法中表现出色。这些技术广泛应用于半导体产业，有助于提高产品质量并降低成本。公司位于北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号，持续致力于研发先进的半导体制造设备，推动行业进步。

此次专利公开标志着公司在半导体工艺设备领域的又一重要突破，为未来技术创新奠定了坚实基础。

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