天眼查App显示，2024年11月13日，拓荆科技股份有限公司公开了一项名为“一种工艺腔室顶盖机构及其薄膜沉积设备”的发明专利（专利号：CN202411621767.6）。该专利主要涉及金属材料的镀覆技术，特别是化学气相沉积法的应用。发明人王松和费腾提出了一种创新的工艺腔室顶盖机构，旨在提升薄膜沉积设备的性能与稳定性。

这项技术不仅优化了镀覆工艺，还提高了生产效率，适用于半导体、光学等领域。拓荆科技位于辽宁省沈阳市浑南区水家900号，致力于研发先进的镀覆技术和设备。此次专利公开标志着公司在表面处理技术上的重要突破，有望推动相关产业的技术进步。

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