浙江大华技术股份有限公司发明专利公布——曝光调整方法、设备及存储介质

天眼查App显示,导语: 浙江大华技术股份有限公司的一项发明专利于2025年3月21日公布,涉及电通信技术领域的曝光调整方法、设备及存储介质。

关键点:
- 专利名称:曝光调整方法、设备及存储介质。
- 申请时间:2025年2月17日。
- 公布时间:2025年3月21日。
- 专利类型:发明专利。
- 核心内容:通过计算和预测不同曝光比下的信噪比,快速选取最佳曝光比,提升成像质量,避免局部最优解问题。
- 发明人:潘润发、陈天钧、李潇、陈焕、耿江波、邵一轶。
- 地址:浙江省杭州市滨江区滨安路1187号。

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