天眼查App显示，导语：湖北鼎汇微电子材料有限公司、湖北鼎龙汇盛新材料有限公司及湖北鼎龙控股股份有限公司联合申请了一项关于抛光层、抛光垫及抛光方法的发明专利，专利已于2025年4月1日公布。

关键点：
- 专利名称：抛光层，抛光垫及抛光方法
- 申请时间：2025年1月2日
- 公布时间：2025年4月1日
- 申请人：湖北鼎汇微电子材料有限公司、湖北鼎龙汇盛新材料有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司
- 发明人：罗乙杰、毛丽华、高越
- 技术特点：抛光层为均匀闭孔弹性体，表面含微凸体，适用于多种半导体制程，可提升抛光速率并降低缺陷率。
- 地址：湖北省武汉市武汉经济技术开发区东荆河路1号411号房

该专利技术有望在半导体制程中实现更高效的抛光效果。

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。