沈阳芯源微电子设备股份有限公司获“预防局部颗粒聚集结构”实用新型专利授权

天眼查App显示,沈阳芯源微电子设备股份有限公司近日获得一项实用新型专利授权,专利名称为“一种预防局部颗粒聚集结构”,专利号为CN202421473602.4,授权日期为2025年4月8日。

关键点:
- 专利类型:实用新型专利,涉及基板清洗设备技术领域。
- 核心功能:通过升降驱动件、磁力转轴挡片组件等结构,预防晶片与升降Pin顶针接触位置出现颗粒聚集,提升清洗效果。
- 申请人:沈阳芯源微电子设备股份有限公司,地址为辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号。
- 代理机构:沈阳科苑专利商标代理有限公司。
- 授权时间:2025年4月8日正式生效。

该专利结构简单,拆装检修方便,适用于基板清洗设备领域,具有较高的实用价值。

免责声明:本文内容由开放的智能模型自动生成,仅供参考。

Copyright © DoNews 2000-2025 All Rights Reserved
蜀ICP备2024059877号-1