天眼查App显示，导语： 近日，湖北鼎龙芯盛科技有限公司、鼎龙（潜江）新材料有限公司及湖北鼎龙控股股份有限公司联合申请的发明专利正式公布。该专利涉及一种UV吸收化合物及其在光致抗蚀剂组合物中的应用，旨在改善光刻工艺性能。

关键点：
- 核心内容： 提供一种可显著减少深紫外光反射的UV吸收化合物，提升光刻分辨率和工艺窗口。
- 申请时间： 2024年12月27日。
- 公布时间： 2025年4月8日。
- 申请人： 湖北鼎龙芯盛科技有限公司等三家公司。
- 技术优势： 改善驻波效应、降低显影残留风险，增强CDU表现。
- 地址： 湖北省武汉市武汉经济技术开发区办公室507室。

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