天眼查App显示，华海清科股份有限公司成功获得“晶圆边缘抛光方法和抛光装置”发明专利授权，该专利涉及半导体制造领域的关键技术。

关键点：
- 专利名称：晶圆边缘抛光方法和抛光装置
- 专利号：CN202411959835.X
- 申请人：华海清科股份有限公司
- 申请时间：2024年12月30日
- 公布时间：2025年1月28日
- 授权时间：2025年4月15日
- 技术亮点：通过旋转机构和抛光头的非平面结构设计，实现晶圆边缘无棱角抛光，提升半导体制造精度。

该专利的授权标志着华海清科在半导体设备领域的技术创新取得重要突破。

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