专利公布:一种薄膜电阻器用的溅射靶材及其制备方法

天眼查App显示,导语:
近日,有研资源环境技术研究院(北京)有限公司与广东风华高新科技股份有限公司联合申请的发明专利正式公布。该专利涉及一种薄膜电阻器用的溅射靶材及其制备方法,旨在提升靶材性能和薄膜电阻器的稳定性。

关键点:
- 专利名称:一种薄膜电阻器用的溅射靶材、制备方法及其应用
- 申请时间:2025年3月19日
- 公布时间:2025年4月15日
- 核心技术:通过添加适宜的Si、Cr、Ni、Al等材料及氧化物,改善晶粒尺寸、强度和电阻率,实现高致密、均匀分布的靶材制备。
- 性能优势:制备出的薄膜电阻器初阻值≥2kΩ,电阻温度系数≤±10ppm/℃,具备高稳定性和高阻值特点。
- 地址:北京市怀柔区雁栖经济开发区兴科东大街11号
- 代理机构:北京润泽恒知识产权代理有限公司

如有进一步需求,可联系上述地址或相关单位获取详细信息。

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