天眼查App显示，2025年5月6日，「薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置」正式进入专利的公布阶段。申请人为北京京东方显示技术有限公司和京东方科技集团股份有限公司，该项显示技术专利涉及薄膜晶体管及其制备方法，旨在优化显示装置性能。据专利信息显示，该技术实现了突破性进展。发明人为白金超、赵欣欣、丁向前、刘博、马润泽、王永达和王梦楠。 「提供了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示装置。薄膜晶体管包括：衬底；第一导电层，第一导电层位于衬底的一侧，第一导电层包括薄膜晶体管的栅极；第一栅绝缘层，第一栅绝缘层位于第一导电层远离衬底的一侧；第二栅绝缘层，位于第一栅绝缘层远离衬底的一侧；和有源层，有源层位于第二栅绝缘层远离衬底的一侧，有源层包括第一极区、第二极区和沟道区，沟道区位于第一极区和第二极区之间，其中，在第一方向上，沟道区靠近衬底的表面与栅极远离衬底的表面间隔第一距离，第一极区靠近衬底的表面与栅极远离衬底的表面间隔第二距离，第一距离小于第二距离，第一方向平行于栅极朝向有源层的方向。」

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