天眼查App显示，2025年5月6日，「一种等离子增强的气相沉积设备」正式进入专利权的授权阶段。申请人为广东汇成真空科技股份有限公司，该项光学镀膜专利涉及气相沉积设备在光学镀膜领域的应用，并实现了高产量和设备的大型化。据专利信息显示，该技术实现显著优化。发明人为李志荣、吴历清、覃志伟、张若愚、陈思、周巧荣。

本实用新型公开了一种等离子增强的气相沉积设备，包括反应腔体和外真空腔体，反应腔体设置在外真空腔体内部；还包括等离子体发生组件、源进气装置、气体扩散腔、多层结构的工件架、加热装置以及真空泵；多层结构的工件架竖直并可转动地安装在反应腔体内，气体扩散腔设置在反应腔体的内侧壁，高度与工件架上层架总高度适配，其与工件架相对的一面为纵横排布多个气孔的扩散板，构成气体扩散腔的气体扩散口，等离子体发生组件以及源进气装置的出气口均通向气体扩散腔，加热装置设置在反应腔体的腔壁，真空泵与反应腔体和外真空腔体分别通过管路相连。

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