天眼查App显示，2025年5月6日，「一种半导体清洗液及其制造方法」正式进入专利公布阶段。申请人为江苏达诺尔科技股份有限公司，该项半导体材料专利涉及半导体清洗技术领域。据专利信息显示，该清洗液能够有效去除半导体表面的微小尺寸污染物，并实现无残留效果，清洁性能得到显著优化。发明人为平剑峰、许诗伟。 「本申请涉及一种半导体清洗液及其制造方法，其包括以下质量份数的组分：异丙醇40‑60%、柠檬酸1‑2%、增效表面活性剂0.1‑0.5%、高分散纳米二氧化硅0.06‑0.08%、螯合剂0.5‑1%、缓蚀剂0.3‑0.5%，水补足余量。所述制造方法包括如下步骤：按照质量百分含量将异丙醇、柠檬酸、增效表面活性剂、高分散纳米二氧化硅、螯合剂、缓蚀剂和水混合，搅拌后进行均质化处理，得到半导体清洗液。」

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