天眼查App显示，2025年6月10日，「调节折射率的方法、沉积方法、增透膜、组件及设备」正式进入专利公布阶段。申请人为江苏日久光电股份有限公司，该项光学材料专利涉及磁控溅射沉积技术在增透膜制备中的应用。据专利信息显示，通过优化磁控溅射沉积技术，实现了高折射率层和低折射率层之间更大的折射率差值，显著优化了产品对反射率的要求。发明人为汪金铭、于佩强、胡业新、刘世琴、袁明、黄芪。 「本发明公开了一种调节折射率的方法、沉积方法、增透膜、组件及设备，其中增透膜包括基材层以及形成于基础层上的增透层，所述增透层为以低折材料层和高折材料层交替形成的复合层结构，其中低折材料层和高折材料层各自为在不同频率的电源和/或不同溅射功率和/或不同溅射气体组成比例和/或不同靶基距下形成的具有不同致密度的层，其中低折材料层的致密性相较于高折材料层的致密性较低。本发明通过优化磁控溅射沉积技术，实现了在AR膜增透结构的膜层沉积过程中，让高折射率层的折射率逼近其折射率区间的上限，低折射率层的折射率逼近其折射率区间的下限，从而实现了两者之间具有更大的折射率差值，从而满足了产品对反射率的要求。」

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