苏州苏大维格科技集团股份有限公司光学器件及其制备方法专利公布(光学专利快讯)

天眼查App显示,2025年6月10日,「光学器件及其制备方法、三维显示系统、打印系统」正式进入专利的公布阶段。申请人为苏州苏大维格科技集团股份有限公司和苏州大学,该项光学领域专利涉及三维偏振显示技术及多样化显示需求的应用场景。据专利信息显示,该发明实现了显著优化的技术效果。发明人为夏仲文、华鉴瑜、乔文和陈林森。

本申请提供了一种光学器件的制备方法,包括提供基板,在基板上形成光控取向层,所述光控取向层包括线偏振敏感材料;对光控取向层中的线偏振敏感材料进行曝光取向,并在光控取向层远离基板的一侧形成液晶聚合物薄膜层。通过光控取向层中的线偏振敏感材料能够吸收线偏振光的能量,从而对液晶聚合物薄膜层中的液晶长轴分子进行取向,实现对入射光的几何相位调制。由此可以根据需求设计出三维偏振显示效果,满足多样化的显示需求。

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