天眼查App显示，2025年6月20日，「一种负性光刻胶组合物及其用途」正式进入专利公布阶段。申请人为上海彤程电子材料有限公司、北京科华微电子材料有限公司和北京大学，该项光刻技术专利涉及光刻胶底角及驻波缺陷改善领域。据专利信息显示，通过使用特定种类的有机胺类化合物作为特殊添加剂，能够显著优化光刻胶性能。发明人为王璨、张宁、李冰、鲁代仁、裴坚和董栋。 「本发明提供了一种负性光刻胶组合物及其用途，涉及光刻技术领域。该负性光刻胶组合物原料组分包括溶质和第一溶剂；其中，溶质包含70wt％-96wt％碱溶性树脂、1wt％-30wt％光致产酸剂、1wt％-20wt％交联剂、0.1wt％-15wt％酸淬灭剂、0.01wt％-3wt％表面活性剂和0.1wt％-0.2wt％特殊添加剂；特殊添加剂为有机胺类化合物；第一溶剂的质量为碱溶性树脂质量的1-15倍。本发明通过使用特定种类的有机胺类化合物作为特殊添加剂，能够改善光刻胶底角及驻波等缺陷问题。」

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