天眼查App显示，2025年6月24日，《量子点复合粒子及其制备方法和含其的光致发光器件》正式进入专利权的授权阶段。申请人为纳晶科技股份有限公司，该项涉及染料及光致发光材料领域的专利提供了一种提升量子点稳定性的全新技术方案。据专利信息显示，该方案通过抗氧剂层与无机氧化物层的双重保护机制，显著优化了量子点在复杂环境下的性能稳定性。发明人为余建星、苏昱恺、王志纯、邱铭良。本公开提供了一种量子点复合粒子及其制备方法及含其的量子点光致发光器件。该量子点复合粒子包括量子点，配位在量子点表面的抗氧剂层和包覆抗氧剂层的无机氧化物层，抗氧剂层的抗氧剂具有与量子点表面配位的配位基团，抗氧剂层的厚度为1~10nm。无机氧化物层作为量子点的第一保护手段，阻挡水氧入侵；将抗氧剂修饰在量子点表面形成抗氧剂层，来防止透过无机氧化物包覆层的小分子对量子点的伤害，进一步提升量子点稳定性。

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