天眼查App显示，2025年7月1日，《一种化学机械抛光液及其用途》正式进入专利的公布阶段。申请人为安集微电子科技（上海）股份有限公司，该项材料处理专利涉及化学机械抛光技术领域。据专利信息显示，该化学机械抛光液包含表面电势低于-30mV的氧化铈研磨颗粒和哌嗪，能够显著提升Si的抛光速率，同时TEOS也能实现较高的抛光速率，并将TEOS：Si抛光选择性调整至1:1。发明人为陈寅斌、徐鹏宇、许晓佳、李守田。本发明提供的抛光液在半导体制造工艺中具有广泛应用前景。

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