天眼查App显示，2025年7月1日，《一种用于提高TEOS抛光速率的化学机械抛光液及其用途》正式进入专利的公布阶段。申请人为安集微电子科技（上海）股份有限公司，该项材料处理专利涉及化学机械抛光技术领域。据专利信息显示，该抛光液包括含氮杂环共轭化合物及带有负电荷（Zeta<-30mV）的氧化铈颗粒，能够显著提升TEOS的抛光速率，并可简化抛光后的清洗工艺，提高产品良率和产率，降低生产成本。发明人为陈寅斌、徐鹏宇、许晓佳、李守田。本发明为半导体制造中TEOS层的平坦化工艺提供了突破性进展。

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