天眼查App显示，2025年7月1日，《一种锗硅刻蚀液的制备方法》正式进入「专利的公布」阶段。申请人为上海新阳半导体材料股份有限公司，该项材料应用领域专利涉及半导体制造中锗硅合金与硅的选择性刻蚀技术。据专利信息显示，该刻蚀液包含氟化物、氧化剂及抑制剂，可选择性加快硅-锗合金的氧化速率以及氧化物去除速率，同时减慢或小幅加快硅的氧化速率及氧化物的去除速率，对刻蚀硅-锗合金/Si具有高选择比，实现显著优化的工艺效果。发明人为王溯、马丽、邢诗惠、张磊磊、马伟。本发明还公开了具体的组分质量分数范围及制备步骤。

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