天眼查App显示，2025年7月1日，《一种氧化铈抛光液的应用》正式进入专利的公布阶段。申请人为上海新阳半导体材料股份有限公司,上海晖研材料科技有限公司，该项染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用专利涉及集成电路制造中的化学机械抛光工艺。据专利信息显示，该氧化铈抛光液可控制及调解去除速率，减小沟槽氧化物损失，并能够降低100μm/100μm区域的沟槽部碟陷量，具有显著优化的应用性能。发明人为王溯;蒋闯;杨杰;沈学敏。本发明包含下述质量分数的组分：0.1％‑10％氧化铈研磨粒子、0.1‑5％光抑制剂、0.01‑5％分散剂、0.01‑2％pH调节剂、50‑500ppm阴离子表面活性剂以及水，具有良好的选择性移除氧化硅膜能力，具备突破性进展和广泛应用前景。

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