天眼查App显示，2025年7月8日，「一种化学机械抛光液及其用途」正式进入专利的公布阶段。申请人为安集微电子科技（上海）股份有限公司，该项材料处理专利涉及化学机械抛光液及其用途。据专利信息显示，该抛光液包含二氧化硅研磨颗粒、磺酸基化合物和含有两个及以上羟基的化合物，具有较高的碳材料去除速率和较低的氮化硅去除速率，从而实现更高的选择比。发明人为刘天奇;周文婷;荆建芬;蔡鑫元;王苗苗;王正;姚颖;唐浩杰;王拓;张然。本发明为提升化学机械抛光性能提供了突破性进展。

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