天眼查App显示，2025年7月8日，「一种化学机械抛光液及用途」正式进入专利的公布阶段。申请人为安集微电子科技（上海）股份有限公司，该项材料应用专利涉及化学机械抛光工艺制程中对氮化硅/SOD材料的选择性去除。据专利信息显示，该抛光液包含研磨颗粒、含羧基的化合物以及磷酸酯类表面活性剂，具有较高的氮化硅去除速率和较低的SOD材料去除速率，选择性优化效果显著。发明人为周文婷;荆建芬;刘天奇;姚颖;宋凯;王苗苗;蔡鑫元;杨征;王乐;陆弘毅。本发明的化学机械抛光液可广泛应用于半导体制造中的精密表面处理领域。

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