天眼查App显示，2025年7月8日，「改性二氧化硅溶胶及其制备方法和抛光组合物」正式进入专利的公布阶段。申请人为武汉鼎泽新材料技术有限公司、鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司、鼎龙（仙桃）新材料有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司，该项材料应用专利涉及改性二氧化硅溶胶的制备及其在抛光组合物中的应用场景。据专利信息显示，该技术通过选用特定HLB值的聚醚硅氧烷表面活性剂，并搭配助表面活性剂形成水包油微乳液，在碱性催化剂作用下原位生成二氧化硅纳米粒子，实现二氧化硅粒子表面改性，从而提高氧化硅和多晶硅的抛光速率，同时降低抛光后晶圆表面缺陷。发明人为邹毓、刘文军、李小龙。本发明旨在解决传统抛光材料在高精度电子制造中性能不足的问题，提升抛光效率与表面质量。

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