天眼查App显示，2025年7月11日，江苏微导纳米科技股份有限公司申请的「用于薄膜沉积设备的进气系统和薄膜沉积设备」专利正式进入专利的公布阶段。该项半导体制造领域的专利涉及薄膜沉积设备技术，据摘要信息显示，该进气系统通过设置主进气结构与副进气结构，并采用具备阀芯切换机制的多个进气通道，能够根据反应腔室与进气通道之间的气压差自动控制气体通断，从而有效减少气体返流，提升腔体洁净度及薄膜沉积质量。发明人为袁凤宝、张义明。本申请还公开了包含该进气系统的薄膜沉积设备，适用于对金属材料、半导体材料进行高质量镀覆处理场景。

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