天眼查App显示，2025年7月11日，「太阳能电池及其底切现象的改善方法、及其制备方法」正式进入专利的公布阶段。申请人为横店集团东磁股份有限公司，该项新能源技术专利涉及太阳能电池制造领域中的底切问题优化方案。据专利信息显示，该方法通过对太阳能电池半成品进行激光图形化刻蚀与湿化学腐蚀相结合，并在交界处制备绝缘层，从而有效降低电池漏电风险，提升光电转换效率及使用寿命。发明人为张婷、吴成坤、魏露露、夏磊、柳云雷、钱程。本申请提供的改善方法可以改善太阳能电池制备过程中的底切现象，降低电池漏电的可能性，继而利于提升电池的光电转换效率、使用寿命和可靠性。

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