天眼查App显示，2025年7月11日，「氧化铈颗粒及其制备方法和研磨用组合物」专利正式进入专利的公布阶段。申请人为武汉鼎泽新材料技术有限公司,鼎泽（仙桃）新材料技术有限公司,湖北鼎龙新材料有限公司,湖北鼎龙控股股份有限公司，该项无机化学专利涉及纳米材料制备和半导体抛光技术领域。据专利信息显示，该氧化铈颗粒在研磨过程中具有较高的Oxide研磨速率和较低的OX表面缺陷，并保持SiN研磨速率不变，提高了OX/SiN选择比。发明人为张旭;肖桂林;胡怀志;刘子龙。本申请提供的氧化铈颗粒及其制备方法和研磨用组合物，包括：向含碳酸铈的溶液中滴加预设比例的过氧化氢，搅拌均匀后，将混合溶液加入到氨水中，得到Ce（OH）3/Ce（OH）4混合沉淀；将沉淀过滤洗涤，粉碎后在750℃下于预设气氛中煅烧2小时，得到一次粒径为30‑60nm的氧化铈颗粒，氧化铈颗粒中氧化铈（Ⅲ）：（氧化铈（Ⅲ）+氧化铈（Ⅳ））的比例范围为40‑50％。

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