武汉鼎泽新材料技术有限公司硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物专利公布(无机化学专利快讯)

天眼查App显示,2025年7月18日,「硅溶胶及其制备方法和用于铜制程的研磨用组合物」正式进入专利的公布阶段。申请人为武汉鼎泽新材料技术有限公司、鼎泽(仙桃)新材料技术有限公司、鼎龙(仙桃)新材料有限公司、湖北鼎龙控股股份有限公司,该项无机化学专利涉及铜制程研磨技术领域。据专利信息显示,该硅溶胶中包含小粒径与大粒径二氧化硅,二者互相配合可在提高研磨速率的同时减少表面缺陷,实现显著优化。发明人为欧阳广成、周航、高念、肖桂林。本申请提供的硅溶胶制备方法包括:通过阳离子交换制备活性硅酸;在无机稀碱溶液中添加高价金属盐或其与硅溶胶晶种的混合液,形成母液;通过滴加活性硅酸溶液并进行加热反应,最终获得宽粒径分布的单峰球形硅溶胶。该技术有望在半导体制造或精密加工领域实现广泛应用。

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