天眼查App显示，2025年7月22日，深圳市星源材质科技股份有限公司与赛鹏科技有限公司联合申请的「一种单面涂覆隔膜及其制备方法和应用」专利正式进入专利的公布阶段。该项基本电气元件领域的专利涉及隔膜技术领域，据摘要信息显示，该专利通过将表面特征参数R的范围控制在特定的0.5~30之间，使涂覆面的微孔结构保持稳定，从而使隔膜的整体透气值、面电阻与对过渡金属离子阻隔效率达到平衡，在保证足够阻隔效果的同时还能维持隔膜的高透气性与低面电阻，有利于提升单面涂覆隔膜负载的均一性。发明人为方逸飞、郭辰、褚泽绵、聂明展、姚大华、杜铭聪、林东泉、彼得·D·弗里施曼、布莱恩·C·西斯克、兰加·兰加纳坦、亚历山大·C·米勒、赫苏斯·A·奥乔亚·比列达、亚当·M·奥兹瓦尔德。

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