天眼查App显示，2025年8月12日，「光罩修正方法、装置、设备及介质」正式进入专利的公布阶段。申请人为合肥晶合集成电路股份有限公司，该项半导体制造专利涉及光罩修正技术，旨在提升曝光后光罩图案与目标图形的一致性。据专利信息显示，该方法通过基于测试版图参数和光化学反应参数训练修正模型，使成本评价函数及均方根值均最小，从而获得更精准的版图修正模型，技术效果数据提升达显著优化。发明人为刘秀梅、罗招龙。摘要显示：该方法包括获取测试版图和光化学反应参数，并基于这些参数训练初始光学临近效应修正模型，最终输出修正后版图以用于目标光罩制作，提升曝光精度。

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