在2025英特尔代工大会上，英特尔未明确其Intel 14A节点是否会采用High NA EUV光刻技术，但代工部门高管纳加·钱德拉塞卡兰表示，公司仍可选择在14A制程中完全沿用传统Low NA技术或部分引入High NA方案。他强调，两种技术路径在设计规则上兼容，确保客户不受影响。

目前，英特尔已在俄勒冈州研发晶圆厂部署第二套ASML High NA EUV光刻系统，进展符合预期。该技术正向量产推进，且英特尔已掌握其在18A及14A节点的关键数据，为后续技术决策提供支撑。