三星1c纳米DRAM良率突破60%,技术改进助力HBM市场突围

据韩媒SEDaily和MK报道,三星电子第六代10纳米级(1c nm)DRAM内存工艺良率显著提升,从去年不足30%增至目前的50%-70%,近期测试数据更突破60%。这一进展得益于大胆的设计变更,虽略微延迟量产时间,但技术层面实现重要突破。

行业观察指出,三星此前因HBM市场表现不佳,一季度DRAM营收被SK海力士反超。随着1c纳米工艺良率改善,三星有望以更稳定的HBM4产品重夺市场优势,为下半年竞争注入强心剂。

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