佳能近日在栃木县宇都宫市举行半导体光刻设备新工厂开业仪式，这是该公司21年来首次新建光刻机生产基地。据悉，这座总投资约500亿日元、建筑面积达67518平方米的工厂将于9月投产，届时佳能光刻设备产能将较2021年实现翻番。

该工厂主要生产i线、KrF等成熟制程光刻设备，并计划在未来两年内新增镜头加工产线。值得注意的是，工厂还将制造用于先进封装的NIL纳米压印系统，以应对AI技术发展带来的后端封装需求激增。