据韩媒etnews报道，SK海力士计划在未来两年内新增约20台ASML的EUV光刻系统，使其EUV设备总量较当前翻倍。目前该公司已拥有约20台用于研发与生产的EUV机台。在内存领域，EUV工艺自2021年应用于1a nm DRAM后持续扩展。随着AI推动高性能企业级存储需求，特别是HBM产品的快速增长，扩大先进DRAM产能成为关键。为此，SK海力士近期已在利川M16基地部署业界首台量产型High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B，进一步强化技术领先优势。

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