尼康于12月11日宣布，正加速推进新一代半导体工艺设备Litho Booster 1000对准站的开发，计划2026年下半年上市。该设备可在光刻曝光前对晶圆进行高精度测量，并将补偿数据前馈至光刻机，显著提升多层结构的套刻精度。相较于上代产品，其在多点及绝对值测量方面实现更高精度，尤其适用于晶圆对晶圆（WoW）键合等易发生形变的先进制程。Litho Booster 1000可兼容不同厂商的光刻机，有助于提高先进3D半导体制造的良率。

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