三星1c nm DRAM良率突破60%

2026年1月16日,韩媒报道称三星电子第六代10纳米级DRAM(1c nm)制程良率已提升至约60%,超过量产盈亏平衡点。该进展为HBM4内存的高利润量产奠定基础,助力业绩增长。三星调整策略,由良率优先转为加速量产,以争取英伟达等客户订单。TrendForce指出,HBM内存量产有望于2026年第一季度末实现,主要厂商仍有时间优化良率。

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