2026年3月，北京创世威纳科技有限公司完成A+轮融资，由中银国际投资与金浦投资联合出资。该公司专注于磁控溅射、离子束溅射、电子束蒸发及多弧离子镀膜等半导体工艺设备的研发设计。本轮融资将用于加速核心设备量产、技术研发升级及高端人才引进。作为国内少数覆盖多种物理气相沉积（PVD）技术路径的设备商，创世威纳致力于提升国产半导体关键制程装备自主化水平。

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