2026年4月6日，韩媒Sedaily报道称，三星电子已向ASML和佳能订购超70台光刻机，用于平泽P5晶圆厂集群首阶段PH1建设。其中约20台为ASML EUV曝光系统。PH1将投产1c nm制程DRAM，兼顾通用内存与HBM制造。设备预计2027年第二季度起安装，洁净室同期完工，有望于2027年内贡献产能，缓解AI芯片（如英伟达Rubin XPU）带动的DRAM供应紧张。

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