2026年5月,日本旭化成株式会社宣布成功开发出面向AI半导体封装的感光性聚酰亚胺薄膜。该产品融合其成熟PIMEL技术和SUNFORT平台积累的材料与工艺,实现更薄、更高性能特性。目前正向客户送样评估,目标为尽快量产上市。新薄膜适用于半导体封装重布线层及封装基板绝缘层,旨在满足AI芯片对高密度、高可靠性先进封装日益增长的需求。
免责声明:本文内容由开放的智能模型自动生成,仅供参考。
2026年5月,日本旭化成株式会社宣布成功开发出面向AI半导体封装的感光性聚酰亚胺薄膜。该产品融合其成熟PIMEL技术和SUNFORT平台积累的材料与工艺,实现更薄、更高性能特性。目前正向客户送样评估,目标为尽快量产上市。新薄膜适用于半导体封装重布线层及封装基板绝缘层,旨在满足AI芯片对高密度、高可靠性先进封装日益增长的需求。
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