2026年9月,韩国DB HiTek公司宣布其基于8英寸晶圆的1200V碳化硅(SiC)MOSFET工艺通过可靠性认证。该公司建成全球首套完整1200V 8英寸SiC代工工艺流程,已向客户交付第一代与第二代工艺对应的PDK;第三代PDK将于2026年11月发布。该代工服务计划于2027年第二季度全面开放。此举旨在满足新能源汽车、光伏及储能领域对高功率SiC器件日益增长的需求。
免责声明:本文内容由开放的智能模型自动生成,仅供参考。
2026年9月,韩国DB HiTek公司宣布其基于8英寸晶圆的1200V碳化硅(SiC)MOSFET工艺通过可靠性认证。该公司建成全球首套完整1200V 8英寸SiC代工工艺流程,已向客户交付第一代与第二代工艺对应的PDK;第三代PDK将于2026年11月发布。该代工服务计划于2027年第二季度全面开放。此举旨在满足新能源汽车、光伏及储能领域对高功率SiC器件日益增长的需求。
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