天眼查App显示，杭州广立微电子股份有限公司近日获得了一项发明专利授权，涉及一种集成电路后仿真版图生成方法、装置和可读存储介质。该方法通过获取原始版图中的目标器件及其引脚的绕线结构，生成第一版图文件；同时获取包含目标器件所有引脚的前中段层在内的目标区域，生成第二版图文件；最后将两个版图文件合并，得到目标器件的后仿真版图。此方法解决了后仿真过程中金属走线不全导致的精度低问题，并提高了后仿真参数网表的提取效率。该专利申请于2024年8月7日提交，授权公告日期为2025年1月3日。发明人为万晶、杨璐丹和瞿屹超，代理机构为杭州华进联浙知识产权代理有限公司。

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