光栅的制备方法专利公布

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同方威视技术股份有限公司与清华大学联合申请的“光栅的制备方法”发明专利于2025年2月14日公布。该专利涉及光学领域,详细描述了光栅的制备工艺。

关键点
- 申请时间:2024年12月26日
- 公布时间:2025年2月14日
- 申请人:同方威视技术股份有限公司、清华大学
- 发明人:张丽、王振天、黄清萍、张金宇、张立国、杨建学
- 专利号:CN202411944763.1
- 公布号:CN119439338A
- 分类号:G02B5/18(主分类),B05C5/02, B05C11/10, B29C45/00, B29C45/26(其他分类)
- 地址:北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
- 邮政编码:100084
- 代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

此专利详细介绍了光栅的制备方法,为相关领域的技术创新提供了重要参考。

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