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拉普拉斯新能源科技股份有限公司于2025年3月4日获得一项外观专利授权，涉及化学气相沉积炉（立式LPCVD）。该专利申请于2024年7月26日提交，由北京品源专利代理有限公司代理。

关键点
- 专利名称：化学气相沉积炉（立式LPCVD）
- 专利类型：外观专利
- 授权日期：2025年3月4日
- 申请日期：2024年7月26日
- 申请人：拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 发明人：何瑜浩、朱太荣
- 地址：广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
- 专利号：CN202430471991.6
- 授权号：CN309148662S

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