同方威视技术股份有限公司申请射线源装置和射线检查系统发明专利

天眼查App显示,导语: 同方威视技术股份有限公司近日申请了一项名为“射线源装置和射线检查系统”的发明专利,涉及测量与测试领域。该专利已于2024年12月16日提交申请,预计将于2025年3月14日公布。

关键点:
- 主体单位: 同方威视技术股份有限公司
- 专利类型: 发明专利
- 申请时间: 2024年12月16日
- 公布时间: 2025年3月14日
- 专利内容: 射线源装置包括固定平台、活动平台和射线源,适用于射线检查系统。
- 地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

该专利的公布将进一步推动射线检查技术的发展,适用于多种测量与测试场景。

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