天眼查App显示，导语：上海至纯洁净系统科技股份有限公司与上海泛楒立光电设备有限公司联合申请了一项发明专利，涉及一种臭氧水制备方法，旨在提高臭氧水浓度稳定性，保障晶圆清洗效果。

关键点：
- 申请时间：2024年12月23日
- 公布时间：2025年3月18日
- 发明人：沈健锋、姜惠程、胡农、沈一林
- 专利类型：发明专利
- 核心内容：通过臭氧发生器、微纳米气泡装置及气液分离装置，制备稳定高浓度臭氧水，提升晶圆清洗质量。
- 申请单位：上海至纯洁净系统科技股份有限公司、上海泛楒立光电设备有限公司
- 代理机构：上海远同律师事务所

该专利技术为半导体清洗领域提供了创新解决方案，具有重要应用价值。

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